Omdat molybdeen de kenmerken heeft van een hoog smeltpunt, hoge geleidbaarheid, lage specifieke impedantie, goede corrosieweerstand en omgevingsbescherming, wordt molybdeendoel veel gebruikt in de elektronica-industrie, zoals platte paneelschermen, dunne-film zonnecellen, elektroden en bedradingsmaterialen. Laat de redacteur en iedereen nu op de hoogte zijn van de kenmerken van molybdeen-doelwit in Tungsten-Molybdeen-producten?
1. Hoge zuiverheid Molybdeen-doelwit
Hoe hoger de zuiverheid van het molybdeendoel, hoe beter de prestaties van de gesputterde film. Over het algemeen is de zuiverheid van molybdeen -sputterdoel nodig om ten minste 99,95%te bereiken. Met de continue verbetering van de schaal van glazen substraten in de LCD -industrie, moet de lengte van de bedrading worden verlengd en moet de lijnbreedte echter dunner zijn. Om de uniformiteit van de film en de kwaliteit van de bedrading te waarborgen, worden de zuiverheidseisen van molybdeen -sputterdoel ook dienovereenkomstig verbeterd. Daarom moet volgens de schaal van het gesputterde glassubstraat en de toepassingsomgeving de zuiverheid van molybdeen sputterdoel 99,99% -99 zijn. 999% of zelfs hoger.
2. Molybdeen doelwit met hoge dichtheid
Tijdens het sputteringscoatingproces, wanneer het sputterende doelwit met lage dichtheid wordt gebombardeerd, wordt het gas in de interne poriën van het doel plotseling vrijgegeven, wat resulteert in grootschalige doeldeeltjes of microdeeltjes die spatten, of nadat de film is gevormd, wordt de film gebombardeerd door secundaire elektronen om microdeeltjes te vormen. Het uiterlijk van deze deeltjes zal de kwaliteit van de film verminderen. Om de poriën in de doelstelling te verminderen en de prestaties van de film te verbeteren, is het sputterdoel over het algemeen nodig om een hogere dichtheid te hebben. Voor sputterende doelen van molybdeen moet de relatieve dichtheid boven 98%zijn.
3. Graangrootte
Over het algemeen zijn molybdeen sputterdoelen polykristallijne structuren, en de korrelgrootte kan variëren van micron tot millimeters. Experimentele studies hebben aangetoond dat de sputtersnelheid van fijnschalige korreldoelen sneller is dan die van grove korrels, en de dikteverdeling van afgezette films is uniformer voor doelen met kleinere korrelgrootteverschillen.
4. Kristallisatierichting
Tijdens het sputteren worden de doelatomen gewoon bij voorkeur gesputterd in de richting van de zeshoekige opstelling van atomen. Daarom wordt de sputteringssnelheid vaak verhoogd om de sputteringssnelheid te bereiken door de doelkristalstructuur te veranderen. De kristallisatierichting van het doel heeft ook een grote invloed op de dikte -uniformiteit van de gesputterde film. Daarom is het verkrijgen van een doelstructuur met een bepaalde kristaloriëntatie cruciaal voor het sputterproces van de film.
5. Thermische en elektrische geleidbaarheid
Fabrikanten van wolfraam- en molybdeenproducten vertellen u dat het molybdeen-sputterdoel moet worden verbonden met het zuurstofvrije koper (of aluminium en andere materialen) chassis om ervoor te zorgen dat de thermische en elektrische geleidbaarheid van het doel en het chassis goed zijn tijdens het sputteringsproces. Na binding is het noodzakelijk om ultrasone inspectie door te geven om ervoor te zorgen dat het niet-bindende gebied tussen de twee minder dan 2%is, om te voldoen aan de vereisten van krachtige sputtering zonder af te vallen.
6. Molybdeen -doelprestaties
Zuiverheid: puur molybdeen groter dan of gelijk aan 99,95%, hoge temperatuur molybdeen groter dan of gelijk aan 99% (met toegevoegde zeldzame aardelementen)
Dichtheid: groter dan of gelijk aan 10,2 g/cm3
Smeltpunt: 2610 graden
Specificaties: ronde doelwit, plaatdoel, roterend doelwit
Toepasselijke omgeving: vacuümomgeving of inert gasbeschermingsomgeving, het zuivere molybdeen in wolfraam-molybdeenproducten is hoger, hoge temperatuurweerstand 1200 graden, molybdeumlegering is hoger en hoge temperatuurweerstand 1700 graden.